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新一代積層材料特別要求表面低粗化度、低熱膨脹率、低介質(zhì)損耗及薄型剛強(qiáng)化等。全球半導(dǎo)體封裝中IC封裝載板由有機(jī)基板取代陶瓷基板，倒裝芯片(FC)封裝載板的節(jié)距越來越小，現(xiàn)在典型的線寬/線距為15μm，接下來會(huì)更細(xì)。多層的載板性能重點(diǎn)要求低介電性、低熱膨脹系數(shù)和高耐熱性，在滿足性能目標(biāo)基礎(chǔ)

大容量FLASH存儲(chǔ)器、SRAM、A/D、I/O、兩個(gè)串口、看門狗、上電復(fù)位電路等等。單片機(jī)系統(tǒng)硬件抗干擾常用方法實(shí)踐：影響單片機(jī)系統(tǒng)可靠安全運(yùn)行的主要因素主要

可以用于制造電子電路和元件集成的模型互連器件，

高密度細(xì)線化的需求對(duì)銅箔的需求PCB全都向高密度細(xì)線化發(fā)展，HDI板尤為突出。在十年前IPC為HDI板下的定義是線寬/線距(L/S)是0.1mm/0.1mm及以下，現(xiàn)在行業(yè)內(nèi)基本做到常規(guī)L/S為60μm，先進(jìn)的L/S為40μm。日本的2013年版安裝技術(shù)路線圖數(shù)據(jù)是2014年HDI板常規(guī)L/S為50

DMX512RDM

LDS工藝采用熱塑性塑料和金屬氧化物材料，由激光成型和電路金屬化。3D打印技術(shù)在試圖用于PCB制造，電路圖形不局限于二維平面，成為立體構(gòu)件，此技術(shù)也需要熱塑性高分子材料。新興的醫(yī)療電子設(shè)備開始登場(chǎng)，其中有部分裝置是植入身體的，

1）在印制電路板的電源輸入端跨接100uF左右的電解電容，DMX512RDM

溶劑稀釋、浸漆、烘干、去保護(hù)等流程，工序繁瑣、工時(shí)相對(duì)較長(zhǎng)，整個(gè)工藝完成超過12小時(shí)。浸涂三防漆后的電路板如果再返工焊接將會(huì)破壞涂層，影響電路板的三防效果。電路板的浸泡工藝是將2種不同熔點(diǎn)的電子蠟，按照一定的配比加熱融化后，將電路板直接浸泡在蠟水中，然后再拿出晾干即可。該工藝主要分為配比、

如果體積允許的話，電容量大一些則更好。（2）原則上每個(gè)集成電路芯片的旁邊都需要放置一個(gè)0.01uF的瓷片電容，如果電路板的空隙太小而放置不下時(shí)，可以每10個(gè)芯片左右放置一個(gè)1～10uf的鉭電容。（3）對(duì)于抗干擾能力弱