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大于5μm。銅箔粗糙的凸峰嵌入基材是提高了抗剝離性,但在線路蝕刻時(shí)為控制導(dǎo)線精度不至過蝕刻,容易有嵌入基材凸峰殘留,造成線路間短路或絕緣性下降,對(duì)精細(xì)線路尤為嚴(yán)重。因此需要低粗糙度(小于3μm)的銅箔,甚至更低粗糙度(1.5μm)的銅箔。但銅箔粗糙度降低而導(dǎo)體的抗剝強(qiáng)度仍要保持,

它包括芯片、器件選擇、去耦濾波、印刷電路板布線、通道隔離等。(6)單片機(jī)外圍電路較多時(shí),必須考慮其驅(qū)動(dòng)能力。驅(qū)動(dòng)能力不足時(shí),系統(tǒng)工作不可靠,

生噪聲,在放置時(shí)把它們靠近些。對(duì)于那些易產(chǎn)生噪聲的器件、

L/S為20μm。PCB線路圖形形成,傳統(tǒng)的是銅箔基板上光致成像后化學(xué)蝕刻工藝(減成法),減成法制作精細(xì)線路的限度最小約在30μm,并且需要用薄銅箔(9~12μm)基板。由于薄銅箔CCL價(jià)格高,及薄銅箔層壓缺陷多,較多工廠產(chǎn)生18μm銅箔然后生產(chǎn)中采取蝕刻減薄銅層。這種做法工序多、厚度控制難、成本高

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小電流電路、大電流電路開關(guān)電路等,應(yīng)盡量使其遠(yuǎn)離單片機(jī)的邏輯控制電路和存儲(chǔ)電(ROM、RAM),如果可能的話,可以將這些電路另外制成電路板,這樣有利于抗干擾,提高電路工作的可靠性。2. 盡量在關(guān)鍵元件,

功能要求,并留有適當(dāng)余地,以便進(jìn)行二次開發(fā)。DMX512RDM

或者半固化環(huán)氧玻璃布與銅箔層壓的積層難以達(dá)到精細(xì)線路?,F(xiàn)在趨于采用半加成法(SAP)或改進(jìn)型半加工法(MSAP),即采用絕緣介質(zhì)膜積層,再化學(xué)鍍銅形成銅導(dǎo)體層,因銅層極薄容易形成精細(xì)線路。半加成法技術(shù)重點(diǎn)之一是積層介質(zhì)材料,為符合高密度細(xì)線路要求對(duì)積層材料提出介質(zhì)電氣性、絕緣性、耐熱性、

(3)硬件結(jié)構(gòu)應(yīng)結(jié)合應(yīng)用軟件方案一并考慮。硬件結(jié)構(gòu)與軟件方案會(huì)產(chǎn)生相互影響,考慮的原則是:軟件能實(shí)現(xiàn)的功能盡可能由軟件實(shí)殃,以簡(jiǎn)化硬件結(jié)構(gòu)。但必須注意,由軟件實(shí)現(xiàn)的硬件功能,一般響應(yīng)時(shí)間比硬件實(shí)現(xiàn)長(zhǎng),且占用CPU時(shí)間。(4)系統(tǒng)中

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